一、技术参数：

1、处理气量：            5~500Nm³/h

2、纯化后氩气纯度        99.9995% 

   纯氩技术要求应符合下表的规定符合：GB/T4842-2006

装置特点：  

1.  净化则采用了*先进的净化材料。其特点有吸附深度好，吸收杂质气体量大的特点，*高纯度可达99.9999%以上。
2.  并在*后安装了小于0.1μ的金属过滤器。保证了气体粉末的要求。

3.  本装置的阀门采用国内外专业阀门公司的优质产品，保证了产品的高纯度无渗透及安全可靠性。
4.  设备中全部容器、管道、阀门均为不锈钢材质。
5.  设备中全部选用我公司跟踪国际*而研制的净化材料，具有净化深度好、安全可靠、可反复再生的特点。
6.  设备中的主要控制仪表全部采用国内外先进产品。
7.  接头采用先进的高纯接头,保证了无渗透。
8.  外观设计采用国际流行颜色及形式,使产品更美观。
9.  设备可以在线加装微氧分析仪和微量水分析仪使净化后气体得到监测。避免了因设备问题的损失。
10. 本设备具有体积小,操作简便,能耗小,安全可靠的特点。无须频繁再生及再生无须加氢的特点。
11. 本设备在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等的配套使用设备，得到了广泛的应用。
12. 另外，我公司还可以根据用户的不同需求，定制5 m3/h～500 m3/h的大净化流量高纯气体净化器。详情请来电垂询，欢迎订购。
13. 可根据用户的要求对设备进行再设计，如加装水分仪和全自动设备（价格另议）           设备加装微氧分析仪使净化后气体得到监测。避免了因设备问题的损失。本设备具有体积小，操作简便，能耗小，安全可靠的特点。无需频繁再生及再生无须加氢的特点。

★ ：本公司也可根据客户要求，直接做高压的，这样就可省掉使用模压机增压工序。

高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。 氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。 

欢迎新老用户选择我公司产品：氩气净化机，氩气净化器，高纯氩气净化，高纯氩气净化设备，高纯氩气纯化设备，高纯氩气纯化装置，YAC系列氩气净化设备，全自动氩气纯化设备，大型氩气净化设备，硅材料行业用氩气净化设备，硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备，气站专用氩气纯化器，气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备，多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备，钨化氩气提纯机,多晶硅氩气过滤器，氩气纯化装置价格，氩气纯化装置厂家，氩气纯化装置哪家*好。